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真空感應熔煉爐(VIMF)的原理及用途

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真空感應熔煉爐(VIMF)的原理及用途

發(fā)布日期:2020-05-25 作者: 點擊:

真空感應熔煉爐(VIMF)的原理及用途


    真空感應熔煉爐是在真空條件下,利用中頻感應加熱原理,將金屬熔化的成套真空冶煉設備。適用于科研與生產單位對鎳基合金及特殊鋼、精細合金、高溫合金、有色金屬及其合金在真空或保護氣氛下進行熔煉和澆鑄。也可用做稀土金屬及貯氫資料的熔煉和澆鑄.


    首要結構及組成:按結構方式可分為立式和臥式兩種系列。按出料方法立式系列又分為上出料、下出料、側出料三種方式;臥式系列又分為底出料及上出料兩種方式。

真空熔煉爐

    其首要組成為:電爐本體(含熔煉設備)、真空體系、進電設備、水冷體系、液壓體系、氣動體系、電氣控制體系、中頻電源。


首要功用: 在熔煉過程中可在不破壞熔煉室真空情況下進行測溫、取樣、搗料、調查、主補加料和合金成份調整等。與此同時可通過充氣閥充入惰性氣體以控制爐內的壓力和氣氛。澆鑄可澆一錠和多錠及裝入預熱保溫錠模、水冷錠模、砂型箱等以及進行離心澆鑄。按功用方式分為周期式及半連續(xù)式作業(yè)。

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